什么是掩膜版？掩膜版就是微电子制造过程中通过图形转移工具或母版，承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版又称光罩，光掩膜、光刻掩膜版、掩膜版等，掩膜版广泛应用于电子产品、家电、汽车等行业领域，其中主要的客户是半导体厂商英特尔、三星、台积电以及京东方、华星光电等知名企业。

掩膜版分基板和遮光膜两部分，卓力达作为蚀刻工艺的厂家之一，成功实践客户各种掩膜版蚀刻需求，那么掩膜版生产流程是怎么样的呢？

1．客户确定图形后，通过对专业设计软件进行二次编辑和处理。

2．依据版图设计数据分层。运算，根据工艺需求对相应的参数进行确定和格式转化。

3．掩膜版的制造采用的是正性光刻胶，通过光刻机中的激光作用需要曝光区域的光刻内部发生交联反应。

4．通过曝光后在显影液的作用下未曝光区域进行保留并保护膜层。

5．保护膜层的部分会保留图形的样式，再通过蚀刻液进行腐蚀溶解成型。

6．溶解成型后再通过脱模工序进行脱模液除去多余的光刻胶。

7．利用清水洗净掩膜版两面污染物。

8．完成以上步骤后，再进行尺寸测量得到准确的参数值。

9．接下来就是检测掩膜版的产品是否满足客户定制需求，对图形、排名、伤痕、图形边缘等全面检测和确认良品。

10．对良品进行包装，封箱贴好各种参数值，批次，数量等，最终进行发货。