1. 材料选择与预处理

材料规格：选用304、316或316L不锈钢薄板，厚度通常为0.01~0.5mm，具备良好的耐腐蚀性和机械性能。

表面处理：通过研磨或电解抛光去除氧化层，确保表面粗糙度（Ra）≤0.2μm，同时清洗油污和杂质以提高蚀刻均匀性。

2. 涂覆抗蚀剂

抗蚀剂类型：选用负性光刻胶（如SU-8）或干膜，涂层厚度控制在10-50μm。

涂覆工艺：通过喷涂或滚涂使抗蚀剂均匀覆盖表面，避免气泡和脱落，确保后续图案精度。

3. 曝光与显影

掩模设计：使用CAD软件设计微孔图案，分辨率可达5μm，通过光掩模板（如感光胶片）精确转移图案至抗蚀剂表面。

曝光参数：在365nm波长UV光下进行曝光，能量控制在100-300mJ/cm²，形成最小线宽20μm的微孔结构。

显影处理：采用专用显影液去除未聚合抗蚀剂，显影时间与温度需严格匹配抗蚀剂类型。

4. 蚀刻加工

化学蚀刻：常用蚀刻液包括FeCl₃或HNO₃/HF混合液，温度40-60℃，蚀刻速率10-50μm/min，侧蚀比控制在1:0.8以内以保障孔壁垂直度。

电解蚀刻：可选工艺，参数为电压3-12V、电流密度0.5-2A/cm²，实现±5μm精度，适用于复杂结构。

过程控制：通过调节蚀刻液浓度、温度和时间匹配材料厚度与孔径需求（时间越长、温度越高则蚀刻深度越大）。

5. 后处理与质检

去胶清洗：使用3-5%NaOH溶液或有机溶剂去除残余抗蚀剂，辅以超声波清洗确保表面洁净。

钝化处理：采用20%硝酸钝化液提升耐腐蚀性，强化表面抗氧化性能。

质检标准：通过显微镜或三坐标测量仪检查孔径、孔距及形状，允许误差≤±5μm，不合格品可返修或重新蚀刻。

技术要点

精度控制：需匹配高分辨率掩模（如5μm级）和精密曝光设备，同时优化侧蚀比以减少孔径偏差。

蚀刻液管理：不同材质匹配专用蚀刻液（如316L不锈钢需调整HNO₃浓度），废液须回收处理以符合环保要求。

成本与效率：化学蚀刻适用于批量生产，电解蚀刻更适复杂件加工，需综合权衡工艺选择。

应用领域

精密电子：如微流控芯片、传感器导流孔等，需亚毫米级微孔结构。

医疗器材：手术器械过滤网、药物缓释装置等，要求高洁净度与耐腐蚀性。

工业装饰：蚀刻花纹面板、logo铭牌等，兼顾功能与美观。

通过上述流程与技术优化，不锈钢化学蚀刻加工可高效实现微米级精度的复杂结构，满足多领域定制化需求。实际生产中建议与具备ISO认证的厂家合作，确保工艺稳定性与合规性。