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发布日期:2026-07-27微米光栅铸就感知精度,深圳卓力达精密电铸助推汽车激光雷达编码器码盘微米级技术升级码盘光栅刻线的均匀度、边缘垂直度、尺寸精度、平面稳定性,直接决定角度定位精度、点云失真程度,深刻影响自动驾驶感知安全。 -
发布日期:2026-07-27微米精工赋能先进封装,深圳卓力达精密电铸助推半导体产业微米级升级半导体零部件内部微米级微结构的成型精度、孔壁垂直度、表面光洁度、尺寸一致性,直接影响芯片封装良率、测试稳定性与器件长期可靠性 -
发布日期:2026-07-27微米铸孔赋能先进封装制程,深圳卓力达精密电铸助推 FLUX MASK 钢网实现微米级技术升级钢网微孔孔径精度、孔壁光洁度、阵列一致性、板面平整度,直接决定助焊剂涂布均匀性,有效规避锡球偏移、桥连、虚焊、少通量等封装不良,是稳定芯片互连可靠性、提升产线良率的关键载体。 -
发布日期:2026-07-27微米电铸赋能 Mini LED 精密印刷,深圳卓力达电铸钢网助力显示行业微米级良率突破芯片巨量转移、导电银浆印刷、固晶制程高度依赖高精度印刷钢网,钢网微孔的孔径精度、孔壁垂直度、内壁光洁度、批量一致性,直接决定银浆成型质量,是管控短路、虚焊、少浆、偏位等不良的关键载体。 -
发布日期:2026-07-22BALL MASK 钢网电铸成型工艺与晶圆植球配套应用实例BALL MASK 钢网采用高纯镍低应力电铸一体成型工艺,无机械切削损伤,开孔垂直光滑、整体厚薄均匀、微孔阵列尺寸统一,可稳定适配 8 英寸、12 英寸各类晶圆植球产线,是高端封装植球工序专用核心精密工装。 -
发布日期:2026-07-22FCBG 载板电铸成型工艺全流程与封装配套应用分析FCBG 载板电铸依托高纯镍低应力电化学沉积一体成型技术,无机械切削、无高温挤压损伤,开孔垂直光滑、整体厚度均匀、阵列尺寸公差可控,完美适配 FCBG 芯片微凸点制作、临时承载、导电测试等核心工序,成为先进封装产线关键精密工装。 -
发布日期:2026-07-20蚀刻铜合金精密湿法加工工艺与全行业应用实例蚀刻铜合金依托化学选择性腐蚀工艺成型,全程无机械挤压、无高温损伤,成型件板面平整、侧壁垂直光滑,复杂微孔与异形轮廓可一次成型,成为导电精密配件主流基材。 -
发布日期:2026-07-20蚀刻不锈钢湿法精密工艺及多领域工业应用蚀刻不锈钢加工采用恒温无尘湿法生产线,根据 304、316、430 等不同不锈钢材质匹配专属蚀刻药剂,精准控制侧蚀量,兼顾样品打样与大批量稳定生产。 -
发布日期:2026-07-16电铸SMT钢网精密成型工艺及电子制造应用案例解析电铸SMT钢网采用电化学沉积增材成型工艺制作,区别于传统减材加工模式,具备开孔内壁光滑、张力均匀、无应力形变、脱模效果好等核心优势,是当前高端精密SMT制程的核心配套工装。 -
发布日期:2026-07-16电铸晶圆钢网精密电铸工艺制程及半导体应用案例分析电铸晶圆钢网采用电化学沉积增材成型工艺制作,摒弃传统减材加工模式,具备开孔垂直光滑、板面无应力、厚度均匀、微孔一致性高的核心优势,适配晶圆级精密印刷制程,成为高端半导体封装的核心工装配件。 -
发布日期:2026-07-14微米级超薄垫片化学刻蚀成型工艺及产业化应用案例研究当前精密制造产业全面进入微纳精度升级阶段,电子设备、智能工控、精密检测与半导体装置的装配结构持续微型化,对间隙调平、密封缓冲、导电定位的超薄垫片精度要求达到微米级标准。传统冲压、激光切割工艺加工超薄垫片,普遍存在板材拉伸形变、边缘毛刺、厚度不均、残余应力集中、微结构失真等问题,难以满足高精度设备长期稳定运行的工况需求。微米级超薄垫片采用纯化学选择性刻蚀工艺一体成型,无机械外力接触、无高温热损伤,具 -
发布日期:2026-07-140.05mm金属垫片精密刻蚀加工工艺及工业应用案例详解0.05金属垫片采用精密化学刻蚀工艺一体成型,摒弃机械外力加工模式,具备板面平整、厚度均匀、无应力形变、边缘垂直光滑、尺寸精度高的核心优势,能够完美适配各类设备微小间隙装配需求。
